邓 海

 课题组主页:http://www.polymer.fudan.edu.cn/polymer/research/denghai/

 

邓海 博士,教授

Employment

 

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1998-2000

 

2001-2014

 

2014-2015

 

2015至今

美国罗门哈斯公司

ROHM&HAAS Company, USA

美国英特尔公司

Intel Corporation, USA

東京応化工業株式会社美国分公司

TOK, USA

复旦大学

Fudan University

高级研究员

Senior researcher

高级主任工程师

Senior engineer

院士

Fellow

教授

Professor

 

 

研究领域 (Current Research Area)

Hai Deng, Ph.D.

Professor

Email: haideng@fudan.edu.cn

 

 

Œ下一代3nm节点先进半导体芯片制造用的光刻胶和光刻工艺的研发

 

 

 

1)先进半导体芯片制造用的高端光刻胶、光刻材料和相关工艺集成的研究(微电子方向)

a. 90 nm5 nm节点高端半导体光刻材料的研发;

b. 探索Moore’s Law的材料极限,研发下一代105 nm分辨率的光刻材料DSA

c. 研究DSA的图像化工艺和plasma刻蚀工艺;

d. 纳米器件的设计和加工

 

Education

 

 

1984-1988

 

1990-1992

 

1992-1995

 

1996-1996

 

1997-1998

中山大学

Zhongshan University, China

京都大学

Kyoto university, Janpan

东京工业大学

Tokyo Institute of Technology, Janpan

美国阿克伦大学

University of Akron, USA

加利福尼亚大学伯克利分校

University of California, Berkeley, USA

 

2)纳米材料的精密设计和合成 (材料方向)

 

新型纳米材料、器件的研发,序列可控聚合物及其纳米复合材料的研究

 

 

代表性论文 (Selected Publications)

 

 

 

l  XM Li, J Li, CX Wang, YY Liu, H Deng. Fast self-assembly of polystyrene-b-poly(fluoro methacrylate) into sub-5 nm microdomains for nanopatterning applications. J. Mater. Chem. C, 2019,7, 2535-2540.                                                                                 

 l  XM Li, J Li, CX Wang, H Deng*. Synthesis of a Fluoromethacrylate Hydroxystyrene Block      Copolymer Capable of Rapidly Forming Sub-5 nm Domains at Low Temperatures. ACS Macro Lett.,     2019, 8, 368–373.                                                                 

 l  Synthesis and Directed Self-Assembly of Modified PS-b-PMMA for Sub-10 nm Nanolithography.    XM Li, J Li, H Deng*, Journal of Photopolymer Science and Technology, 2017, 30 (1) :83-86.

l  Design and Synthesis of Sub-10 nm DSA Materials. J Li, XM Li, H Deng*, SPIE Advanced Lithography, 2017, 10146

l  IMMERSION LIQUIDS FOR IMMERSION LITHOGRAPHY; H. Deng et al, US # 7,391,501 (2008)

l  Design and Synthesis of Novel Directed Self-Assembly Block Copolymers for Sub-10 nm Lithography application. J Li, XM Li, H Deng*, CSTIC (Semicon China). 2017, 7919776

l  Ultra-Fast Directed Self-Assembly Materials for Sub-5 nm Patterning Application. XM Li, JN Zhou, Y Peng, H Deng*, SPIE Advanced Lithography, 2018.

l  H Deng, XM Li, Y Peng, JN ZhouFast Annealing DSA materials Designed for Sub-5 nm ResolutionProc. of SPIE 2018, 10586, 105861E.

 

一、美国专利

1.   H. Deng, X. M. Li, J. Li, 15/614, 211. “A RAPID SELF-ASSEMBLED SMALL-SIZED BLOCK POLYMER MATERIAL WITH LOW QUENCHING TEMPERATURE AND THE PREPARATION AND APPLICATION THEREOF”. 

2.  H. Deng, C. X. Wang, Z. L. Li, X. M. Li,16/177,773 “A BLOCK COPOLYMER AND PREPARATION METHOD AND APPLICATION THEREOF”.

二、中国专利

1.   邓海,李雪苗,李杰,一种高度有序的高分子材料,申请号:  201710758647

2.   邓海,李雪苗,李杰,一种低淬火温度快速组装的小尺寸嵌段高分子材料及其制备和应用,申请号:2017104126318

3.  邓海,王晨旭,李志龙,一种超高分辨率含氟含氧嵌段共聚物及其制备方法与应用,申请号:201810863466.2

4.   邓海,李雪苗,一类高度有序的嵌段高分子材料及其制备和应用,申请号:2018109432174

5. 邓海,李雪苗,杨振宇,一种高刻蚀对比度的嵌段共聚物及其制备和应用,201811168748.

6.   邓海,李雪苗,一种高χ值嵌段聚合物的导向自组装方法,申请号:2018110132861

7.   邓海,曹惠,戴乐,刘玉云,一种含液晶单元的定向自组装嵌段共聚物及其合成与应用方法,申请号:201811645070.7

8.   邓海,彭彧,一种光产酸剂及其制备方法和应用,申请号:201611122773